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光谱学与光谱分析  2017, Vol. 37 Issue (09): 2826-2831    DOI: 10.3964/j.issn.1000-0593(2017)09-2826-06
  论文 |
CCD紫外增强薄膜旋涂法工艺优化
冯宇祥1,2,孟银霞2,张国玉2,吴一辉1,郝 鹏1*
1. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,吉林 长春 130033
2. 长春理工大学光电工程学院,吉林 长春 130033
Process Optimization of CCD UV-Responsive Sensitivity Enhancement by Spin-Coating
FENG Yu-xiang1, 2, MENG Yin-xia2, ZHANG Guo-yu2, WU Yi-hui1, HAO Peng1*
1. State Key Laboratory of Applied Optics, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130033, China
2. Changchun University of Science and Technology, Photoelectricity Engineering Academy, Changchun 130033, China