三氟甲基磺酰氟的局部放电发射光谱识别及特征分析
段竣然1,2,*, 高克利3, 刘伟4, 颜湘莲3, 朱姗4, 张国强1,2, 韩冬1,2,*
1.中国科学院电工研究所, 北京 100190
2.中国科学院大学, 北京 100049
3.中国电力科学研究院有限公司, 北京 100192
4.国网安徽省电力有限公司电力科学研究院, 安徽 合肥 230031
*通讯作者 e-mail: donghan@mail.iee.ac.cn; duanjunran@mail.iee.ac.cn

作者简介: 段竣然, 1999年生,中国科学院大学,中国科学院电工研究所硕士研究生 e-mail: duanjunran@mail.iee.ac.cn

摘要

三氟甲基磺酰氟(CF3SO2F)是一种新型的环保绝缘气体, 因为优异的绝缘强度与环境友好性而受到广泛关注。 对不同放电模式下CF3SO2F的发射光谱进行了识别, 从放电角度分析了辐射粒子的发射光谱特征。 电晕放电过程中CF3SO2F解离产生的CF2辐射出了200~400 nm范围内的带状光谱, 与之关联的稳态分解产物有CF4, C2F4, C2F6, C3F8, SO2F2等; 因电场提供的能量增加, 沿面放电发射光谱出现线状与带状光谱交叠的现象。 少数元素粒子出现电离; 火花放电下电场提供的能量最高, 发射光谱以线状光谱为主。 元素粒子出现多级电离; 可见光与红外谱段光子数占比随电场提供的能量增加出现“红移”现象。 研究结果表明, 局部放电过程中气态分子或元素粒子辐射形成的发射光谱与稳态分解产物具有关联性。 特征光谱的出现印证了存在的自由基反应, 光子数占比的不同体现了电场提供能量的多少。 该研究可为CF3SO2F的基础理化性能研究提供参考。

关键词: CF3SO2F; 发射光谱; 局部放电; 自由基反应
中图分类号:TM855 文献标志码:A
Identification and Characteristic Analysis of Partial Discharge Emission Spectra of CF3SO2F
DUAN Jun-ran1,2,*, GAO Ke-li3, LIU Wei4, YAN Xiang-lian3, ZHU Shan4, ZHANG Guo-qiang1,2, HAN Dong1,2,*
1. Institute of Electrical Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, China
2. University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China
3. China Electric Power Research Institute, Beijing 100192, China
4. State Grid Anhui Electric Power Co. Ltd., Electric Power Science Research Institute, Hefei 230031, China
*Corresponding authors
Abstract

Trifluoromethylsulfonyl fluoride (CF3SO2F) is a novel environmentally friendly insulation gas that has attracted widespread attention due to its excellent insulation strength and environmental friendliness. This paper identifies the emission spectra of CF3SO2F under different discharge modes and analyzes the emission spectral characteristics of radiative particles from the discharge perspective. During corona discharge, CF2 emitted a band spectrum of 200 to 400 nm due to the dissociation of CF3SO2F. The associated steady-state decomposition products include CF4, C2F4, C2F6, C3F8, SO2F2, etc. As the energy provided by the electric field increases, overlapping line and band spectra occur in surface discharge emission spectra. A few elemental particles undergo ionization. In spark discharge, where the energy provided by the electric field is highest, line spectra dominate the emission spectra. Multiple levels of ionization of elemental particles occur. With the increase in energy supplied by the electric field, the ratio of photons in the visible and infrared spectral regions exhibits a “red-shift” phenomenon. The research results indicate that the emission spectra formed by gaseous molecules or elemental particles during partial discharge correlate with steady-state decomposition products. The appearance of characteristic spectra confirms the existence of free radical reactions, while the different ratios of photons reflect the amount of energy provided by the electric field. This study can provide references for the basic physical and chemical properties research of CF3SO2F.

Keyword: CF3SO2F; Emission spectra; Discharge transient; Free radical reactions
引言

以六氟化硫(SF6)气体作为绝缘和灭弧介质的电气设备是电网架构的核心。 我国SF6装备规模高居世界第一, 每年新增用量超1万吨。 SF6的全球增温潜势(GWP)为二氧化碳(CO2)的24 300倍, 大气寿命3 200年[1], 是《京都议定书》、 《巴黎协定》等国际公约严格限制使用和禁止排放的气体之一[2, 3]。 因此, SF6替代技术已成为电力行业的研究热点, 主要的替代气体有四氟化碳(CF4)、 全氟异丁腈(C4F7N)、 氮气(N2)、 干燥空气和三氟甲基磺酰氟(CF3SO2F)等[4]

绝缘是电气设备的薄弱环节, 长时间局部放电是造成绝缘劣化甚至失效的重要因素。 发射光谱由放电瞬态解离并激发出的高能气态分子和元素粒子(中性原子、 离子)退激后形成, 是解释绝缘气体解离、 自由基反应、 稳态分解产物形成和放电过程等信息的依据。 图卢兹大学Casanovas等[5]发现电晕放电下SF6或SFx气态分子退激辐射出420~500 nm的带状光谱。 大连理工大学李红月等[6]在SF6/Ar混合气体电晕放电的研究中发现, 脉冲电压施加过程中氟原子发射光谱强度随时间缓慢增加; 武汉大学张晓星等[7]结合发射光谱对SF6的降解进行了研究, 发现放电过程中水(H2O)解离出的H-和OH-将促使SF6生成二氧化硫(SO2)。 中国科学院电工研究所韩冬等[8]分析了电晕、 火花和沿面放电等缺陷条件下SF6的发射光谱, 并利用特征光谱实现了SF6放电缺陷的模式识别。

对于SF6替代气体, 科英布拉大学Morozov等[9]发现CF4分解的CF-3与CF2发射光谱相对强度可以反映放电环境的大气压强及电场强度。 Casanovas等指出CF4在220~340与614 nm附近的特征谱带由分解产物CF2与CF-3气态分子退激辐射形成。 上海交通大学江秀臣等[10]通过C4F7N/CO2混合气体光学局部放电特性与诊断方法的研究, 构建了多光谱阵列检测平台, 实现了SF6与C4F7N/CO2混合气体下局部放电的识别。 大连理工大学刘峰等[11]对N2/H2O混合气体电晕放电产生的OH-(A2Σ ), O(3p5P), Hα (3P), N(3p4P)发射光谱进行检测, 进而研究了脉冲电压、 脉冲频率及氧气(O2)流速对自由基反应的影响。 韩冬[12]等比较了不同电晕放电程度下空气的发射光谱特征, 依此提出了识别放电强度的判据。

CF3SO2F是一种新型的环保绝缘气体, GWP约为CO2的3 600倍[13], 具有优异的绝缘强度和环境友好性, 受到了国内外学者的广泛关注。 近年来, 研究人员在环保、 绝缘、 液化等方面开展了系列研究[14]。 目前局部放电条件下CF3SO2F的发射光谱研究基本未见报道, 局部放电过程中粒子的发射光谱特征与稳态分解产物的关联不明晰。

因此, 本文以CF3SO2F为研究对象, 模拟气体绝缘电气设备常见的局部放电缺陷(电晕放电、 沿面放电和火花放电), 从放电角度识别辐射粒子的发射光谱特征, 结合自由基反应推演稳态分解产物的形成, 以期为CF3SO2F的基础理化性能研究提供参考。

1 实验部分
1.1 试验装置

图1为试验装置结构, 主要包括介电强度测试仪、 放电装置和光谱采集装置等。

图1 发射光谱试验装置结构示意Fig.1 Structure schematic of emission spectroscopy test apparatus

放电装置由不锈钢材质的故障模拟腔、 高压电极以及环氧树脂法兰盘等组成, 通过替换电极结构模拟不同局部放电缺陷。 采用如图2(a)所示的针-板电极结构模拟电晕放电与火花放电; 通过环氧树脂绝缘块表面贴附铜(Cu)丝的方式模拟沿面闪络现象(沿面放电), 电极结构如图2(b)所示。

图2 电极结构
(a): 针-板电极; (b): 沿面放电电极
Fig.2 The electrode structure
(a): Needle plate electrode; (b): Creeping discharge electrode

介电强度测试仪有两种模式。 模式1: 连续输出1~600 s的幅值恒定的工频交流电压, 电压幅值调节范围为1~100 kV, 可模拟电晕放电。 模式2: 以设定速率升压, 直至绝缘介质击穿瞬间电流保护动作, 完成自动降压, 可模拟火花放电和沿面放电。

光谱采集装置包括透镜、 超高真空光纤馈通法兰、 光纤和光谱仪等。 故障模拟腔内的光信号由透镜采集后经光纤传输至光谱仪(海洋光学MX 2500+)。 光谱仪的光谱范围180~1 100 nm, 光谱分辨率1 nm。

试验前, 对故障模拟腔进行3~4次的抽真空(30 min)-充N2的洗气操作, 尽量避免H2O、 空气等杂质的干扰。 然后, 充入CF3SO2F至绝对气压0.2 MPa, 充分静置后再开展局部放电试验。 CF3SO2F的纯度为99.9%(北京宇极科技发展有限公司)。

1.2 CF3SO2F的解离路径

分子结构如图3所示, CF3SO2F可以看作由CF4与SO2化学键杂化形成, 具有平面对称性[15]

图3 CF3SO2F分子结构Fig.3 Structural of CF3SO2F

放电过程中CF3SO2F吸收能量使得原子围绕平衡位置的振动增加[14], 引起碳硫单键(C— S)、 硫氟单键(S— F)、 碳氟单键(C— F)、 硫氧双键(S═O)四类化学键均裂(自由基反应)或异裂(离子型反应)形成基团或元素粒子。 CF3SO2F初级解离路径及焓变如表1所示[14]

表1 CF3SO2F初级解离路径及焓变 Table 1 Primary decomposition path and enthalpy change of CF3SO2F

CF3SO2F及其解离的气态分子存在于电离区, 随着分子振动、 转动以及内部电子能级的变化会辐射出带状光谱。 解离的元素粒子受高能电子的碰撞进入激发态, 外层电子跃迁到不同的能级, 经短暂停留后回到低能态, 由此辐射出一系列线状光谱。 本文将中性原子的发射谱线用Ⅰ 标识, 一次电离的离子发射谱线用Ⅱ 标识, 二次电离的离子发射谱线用Ⅲ 标识[8]

2 CF3SO2F发射光谱分析
2.1 电晕放电

针-板电极场强分布极不均匀, 针尖附近电离区的电场强度较高。 电离区中粒子能态跃迁会产生大量的光辐射, 形成辐射状辉光区。 图4为CF3SO2F在电晕放电条件下形成的发射光谱。

图4 CF3SO2F的电晕放电发射光谱
(a): 200~650 nm; (b): 650~1 050 nm
Fig.4 Emission spectra of CF3SO2F under corona discharge
(a): 200~650 nm; (b): 650~1 050 nm

在200~650 nm谱段内, 200~400以及600 nm附近出现了带状光谱, 其中200~400 nm的光谱信号较强。 650~1 050 nm谱段未检测到有效的光谱信号。

表1可知, 路径1的C— S的均裂键能最低[14, 16], 因此CF3SO2F在高能电子的撞击下极易生成CF-3与SO2F-。 具有瞬时寿命的激发态CF-3在电晕放电间隙短暂停留后会以辐射光子的方式向CF2和F-转变, 在600 nm附近产生带状光谱。 受电压类型、 电场强度、 预解离寿命等因素的影响, 该带状光谱的强度较低。 CF2及其电离产生的CF2+经高能电子撞击进入激发态, 退激过程辐射出200~400 nm的带状光谱[9, 17]

200~400 nm带状光谱的出现, 证实了CF3SO2F中C— S键的均裂过程。 结合CF3SO2F裂解的理论计算[14], 进一步推演得到如图5所示的CF3SO2F在局部放电过程中的分解路径。

图5 CF3SO2F的分解路径Fig.5 Decomposition pathways of CF3SO2F

根据价键与分子轨道理论, 与200~400和600 nm带状光谱关联的稳态分解产物大致有CF4, C2F6, C2F4, C3F8, SO2F2等。 随后, 我们利用气相色谱-质谱联用仪(GC-MS)对电晕放电实验后的实际气体组分进行检测, 如图6所示, 验证了上述推演。

图6 电晕放电的气体色谱检测结果Fig.6 TIC of CF3SO2F decomposition by-products under corona discharge

2.2 沿面放电

金属丝附着在绝缘材料表面时处于悬浮电位。 在电场的作用下, 金属丝端部会积累大量感应电荷导致局部电场发生畸变, 致使端部的电场强度超过气体的绝缘强度, 引发悬浮电位放电现象。 一定条件下, 悬浮电位放电会持续发生, 直到形成贯穿绝缘材料端部的沿面放电。 CF3SO2F在沿面放电条件下的发射光谱如图7所示, 各类气态分子与元素粒子激发加剧, 发射光谱呈现出带状与线状光谱交叠的状态。

图7 CF3SO2F的沿面放电发射光谱
(a): 200~650 nm; (b): 650~1 050 nm
Fig.7 Emission spectra of CF3SO2F under surface discharge
(a): 200~650 nm; (b): 650~1 050 nm

在200~650 nm谱段内, 分布着由CF3SO2F及放电瞬态的气态分子退激辐射形成的带状光谱, 以及由Cu, F, S, O等元素粒子退激辐射产生的线状光谱。 Cu元素粒子源于贴附于环氧树脂表面的铜丝, Fe元素粒子由不锈钢电极提供。 650~1 050 nm谱段内检测到F, C, O等中性原子发射谱线。 沿面放电中全谱段光谱强度峰值出现在Cu Ⅱ 589.039 nm。

Cu发生一次电离的电离能为178.17 kcal· mol-1 [18], 高于CF3SO2F及其解离后基团的键能[14, 16]。 因此, Cu Ⅱ 发射谱线的出现意味着CF3SO2F各键间均可能存在断裂。 沿面放电下, CF3SO2F及其解离基团的C— F和S— F发生断键, 因此在紫外-可见光-红外谱段出现大量的F Ⅰ 与F Ⅱ 发射谱线, 以及部分O Ⅰ 发射谱线。 F和S原子的一次电离能分别为401.78和238.91 kcal· mol-1, 均高于O原子的一次电离能314.04 kcal· mol-1 [18]。 然而, 我们在实验中观测到F Ⅱ 和S Ⅱ 的谱线, 未观测到清晰的O Ⅱ 发射谱线。 主要原因是放电过程中CF3SO2F及其解离的基团在高能电子的碰撞下发生了离子型反应, 由此生成的正负离子非常活泼, 基本不能稳定存在, 从一定程度上抑制了O Ⅰ 的进一步电离。

与电晕放电相比, 沿面放电的放电能量较大, 发射光谱中出现了元素粒子的线状光谱。 但是, 由于气-固沿面击穿放电的能量低于气隙击穿放电的能量, 难以进一步激发出高强度的线状光谱, 因此带状光谱与线状光谱交叠严重。

2.3 火花放电

通过恒速升压的方式在针-板电极间施加电压直至气隙击穿。 此时, 针-板电极气隙间的电子崩稳定过渡为流注放电, 横越电极间隙形成火花放电。 一旦形成流注, 放电本身可由自身产生的空间光电离而自行维持。 CF3SO2F在火花放电条件下的发射光谱如图8所示。

图8 CF3SO2F的火花放电发射光谱
(a): 200~650 nm; (b): 650~1 050 nm
Fig.8 Emission spectra of CF3SO2F under spark discharge
(a): 200~650 nm; (b): 650~1 050 nm

在火花放电过程中, 电场提供的能量使得CF3SO2F及放电瞬态的气态分子解离并激发了大量的元素粒子, 发射光谱以线状光谱为主。 200~650 nm谱段内以元素离子线状光谱为主, 主要有C Ⅰ , C Ⅱ , C Ⅲ 等粒子形成。 这些粒子的来源为电极材料和CF3SO2F等, 退激后能以C单质的方式存在于放电环境。 650~1 050 nm谱段由F, O, C, S的中性原子线状光谱组成。

F Ⅱ 350.563 nm、 S Ⅱ 564.702 nm与O Ⅰ 777.194 nm等处的发射光谱与沿面放电条件下的类似。 这说明沿面放电与火花放电过程中, CF3SO2F存在相似的解离过程。 火花放电中全谱段光谱强度峰值出现在SⅡ 396.31 nm。

此外, 由于微水的存在, 308.642 nm出现了OH-自由基的发射光谱。 微水的辐射过程为

H2OH-+OH-(1)

OH-(A2Σ+)OH-(X2Π)+(2)

电子经电场加速与H2O发生式(1)的自由基反应, 均裂产生OH-。 基态OH-(X2Π )经高能电子撞击转为激发态OH-(A2Σ +), 经过短暂的停留后, 以发光的形式猝灭回基态, 由此产生308 nm附近的OH-发射光谱[19]。 H2O的存在将通过式(3)的方式促使SOF2向SO2的转化。

SOF2+H2OSO2+2HF(3)

与电晕放电和沿面放电相比, 火花放电下电场提供的能量最高, 导致CF3SO2F中各原子间均存在断键。 在发射光谱中体现为C, O, F, S等元素粒子均辐射形成发射光谱, 并伴随有多级电离现象的出现。 火花放电过程解离产生的自由基种类丰富, 复合过程复杂, 稳态分解产物的生成路径增多。

3 光子分布

各谱段光子数占比因放电模式的不同而存在差异。 通过式(4)统计各放电模式下紫外(200~380 nm)、 可见光(380~780 nm)、 红外(780~1 050 nm)谱段内的光子数。

N=λ1λ2I(λ)(4)

式(4)中, N为光子数; λ 为波长; I(λ )为波长λ 处的光谱强度。 积分后得到如图9所示的不同放电模式的光子数占比图。

图9 不同放电模式的光子数占比Fig.9 Photon number proportion under different discharge modes

电晕放电条件下, 紫外谱段的光子数最高, 约占总光子数的50%。 沿面放电模式下, 紫外谱段的光子数占比由49%下降至21%; 可见光谱段的光子数占比大大增加, 由36%上升至64%; 红外谱段无明显变化。 火花放电模式下, 紫外和可见光谱段的光子数占比与沿面放电的类似; 红外谱段的光子数占比增加, 由14%增加到19%。

相比电晕放电, 沿面放电和火花放电的可见光与红外谱段光子数占比增大, 发生了“ 红移” 现象。 不同放电模式下, 电场提供的能量是高能电子能量与密度出现差异的主因, 进而影响了CF3SO2F的解离以及处于激发态下的气态分子与元素粒子的浓度[20]

电晕放电时, 电子经针电极附近强场短暂加速后成为高能电子, 电子崩发展过程如图10(a)所示。 电子崩在发展过程中横向半径逐渐增大, 由此形成的空间电荷的电场将大大增加, 此过程伴随有物质的解离与激发。 此时高能电子能量与密度较低, 解离与激发很难同时达成, 因此激发态物质较少。 由此辐射出的发射光谱较弱, 主要由气态分子形成, 分布在紫外谱段内。

图10 放电过程及光谱产生示意图Fig.10 Schematic diagram of discharge process and spectrum generation

沿面放电和火花放电下, 短时间内电极间会形成稳定的导电通道, 放电状态过程如图10(b)所示。 伴随着高能电子能量与密度上升, 电子崩头部的空间电荷电场畸变加剧并造成了足够的空间光电离, 大大促进了CF3SO2F的解离。 大量气态分子与元素粒子退激辐射出可见光与红外谱段的高强度光谱, 光子数占比出现“ 红移” 现象。 高能电子能量与密度随施加电压增大而增加, CF3SO2F的解离进一步发展, 线状发射光谱增强, “ 红移” 现象更为明显。

4 结论

本文分析了电晕、 火花和沿面放电模式下CF3SO2F的发射光谱及其光子数分布特点, 总结如下。

(1)电晕放电过程中CF3SO2F的发射光谱为带状, 主要由C— S键均裂后的CF-3, CF2基团产生。 与之相关联的稳态分解产物包括: CF4, C2F6, C2F4, C3F8, SO2F2等。

(2)沿面放电和火花放电下CF3SO2F分子中各化学键均存在断裂。 沿面放电下的发射光谱为带状与线状光谱交叠, 发射光谱中出现了与悬浮金属丝元素相关的线状光谱。 火花放电过程中的线状光谱增多, 元素粒子呈现多级电离。

(3)各谱段光子数占比与电场提供的能量有关。 随着电场提供的能量增加, 高能电子能量与密度的上升, 进而促进了CF3SO2F的解离。 气态分子与元素粒子浓度的变大, 可见光与红外谱段内的光子数占比出现“ 红移” 现象。

综合分析, 局部放电过程中气态分子或元素粒子辐射形成的发射光谱与稳态分解产物具有关联性。 特征光谱的出现印证了存在的自由基反应, 光子数占比的不同体现了电场提供能量的多少。 CF3SO2F的局部放电发射光谱的识别与特征分析可为分解特性、 放电能量及放电特征等基础理化性能的研究提供参考。

参考文献
[1] ZHANG Mi, GAO Ke-li, HOU Hua, et al(张咪, 高克利, 侯华, ). High Voltage Engineering(高电压技术), 2023, 49(7): 2816. [本文引用:1]
[2] WANG Hao, YAN Xiang-lian, HAN Dong, et al(王浩, 颜湘莲, 韩冬, ). High Voltage Engineering(高电压技术), 2022, 48(7): 2625. [本文引用:1]
[3] YAN Xiang-lian, GAO Ke-li, HAN Dong, et al(颜湘莲, 高克利, 韩冬, ). Power System Technology(电网技术), 2023, 47(11): 4790. [本文引用:1]
[4] ZHOU Zhen-rui, HAN Dong, ZHAO Ming-yue, et al(周朕蕊, 韩冬, 赵明月, ). Transactions of China Electrotechnical Society(电工技术学报), 2020, 35(23): 4998. [本文引用:1]
[5] Casanovas A M, Casanovas J, Dubroca V, et al. Journal of Applied Physics, 1991, 70(3): 1220. [本文引用:1]
[6] Li Hongyue, Wu Xingwei, Li Cong, et al. Plasma Science and Technology, 2019, 21(7): 074008. [本文引用:1]
[7] Zhang X, Cui Z, Li Y, et al. IEEE Access, 2018, 6: 72748. [本文引用:1]
[8] LI Yan-fei, TANG Bei-bei, HAN Dong, et al(李彦飞, 汤贝贝, 韩冬, ). Transactions of China Electrotechnical Society(电工技术学报), 2022, 37(7): 1866. [本文引用:2]
[9] Morozov A, Fraga M M F R, Pereira L, et al. Nuclear Inst and Methods in Physics Research A, 2011, 628(1): 360. [本文引用:2]
[10] LI Ze, QIAN Yong, ZANG Yi-ming, et al(李泽, 钱勇, 臧奕茗, ). Journal of Shanghai Jiao Tong University(上海交通大学学报), 2023, 57(9): 1176. [本文引用:1]
[11] Liu F, Wang W C, Zheng W, et al. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 2006, 26(5): 469. [本文引用:1]
[12] LI Yan-fei, HAN Dong, QIU Zong-jia, et al(李彦飞, 韩冬, 邱宗甲, ). Spectroscopy and Spectral Analysis(光谱学与光谱分析), 2022, 42(9): 2956. [本文引用:1]
[13] Long Yunxiang, Guo Liping, Wang Yi, et al. Industrial and Engineering Chemistry Research, 2020, 59(24): 11355. [本文引用:1]
[14] LU Si-min, TANG Bei-bei, GAO Ke-li, et al(逯思敏, 汤贝贝, 高克利, ). High Voltage Engineering(高电压技术), 2023, 49(11): 4556. [本文引用:6]
[15] ZHANG Mi, TIAN Ya-feng, GAO Ke-li, et al(张咪, 田亚锋, 高克利, ). Chemical Journal of Chinese Universities(高等学校化学学报), 2022, 43(11): 20220424. [本文引用:1]
[16] Zhang M, Hou H, Wang B. The Journal of Physical Chemistry A, 2023, 127(3): 671. [本文引用:2]
[17] Binns D F, Mufti A H, Malik N H. IEEE Transactions on Electrical Insulation, 1990, 25(2): 405. [本文引用:1]
[18] Atomic Spectroscopy Databases. https://www.nist.gov/pml/atomic-spectroscopy-databases, Last accessed on 2024-5-10. [本文引用:2]
[19] Sarani A, Nikiforov A Y, Leys C. Physics of Plasmas, 2010, 17(6): 063504-1. [本文引用:1]
[20] ZHENG Guo-jing, JI Zi-hua, YU Xing(郑国经, 计子华, 余兴). Atomic Emission Spectrometry: Principles and Applications(原子发射光谱分析技术及应用). Beijing: Chemical Industry Press(北京: 化学工业出版社), 2010. [本文引用:1]