放电辅助激光溅射气相金属化合物分子和离子的产生装置

张吉才^1,², 赵冬梅¹, 马新文¹, 杨杰^1,^*

Discharge Assisted Laser Ablation Source for Gas Phase Metal Compound Molecules and Ions

ZHANG Ji-cai^1,², ZHAO Dong-mei¹, MA Xin-wen¹, YANG Jie^1,^*

激光溅射铜靶结合Ar放电等离子体条件下, (a)Cu⁺离子的TOF质谱; (b)Cu原子LIF光谱 Cu原子跃迁激光诱导荧光光谱如图3 (b)所示, 在溅射和放电同时存在的条件下光谱强度增加约7倍。我们选择3 d ¹⁰4 s ² S ₁ _/ ₂→3 d ¹⁰4 p ² P ₃ _/ ₂跃迁的主要原因是这个跃迁的下态是Cu原子基态, 可以尽量避免Cu⁺电荷俘获生成Cu原子对光谱的影响。可见, 光谱强度增加主要源于基态Cu原子数量增加, 是因为放电等离子体使得Cu原子团簇碎裂产生了更多的Cu原子。