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光谱学与光谱分析  2015, Vol. 35 Issue (02): 474-478    DOI: 10.3964/j.issn.1000-0593(2015)02-0474-05
  光谱学与光谱分析 |
铝诱导层交换超薄多晶硅薄膜制备及压阻特性
王成龙1,马 军1,范多旺1,2,邢 达3,刘颂豪3
1. 兰州交通大学国家绿色镀膜技术与装备工程技术研究中心,甘肃 兰州 730070
2. 兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室,甘肃 兰州 730070
3. 华南师范大学信息光电子科技学院,广东 广州 510631
Piezoresistivity of Ultra-Thin Poly-Silicon Layer by Aluminum-Induced Layer Exchange
WANG Cheng-long1, MA Jun1, FAN Duo-wang1, 2, XING Da3, LIU Song-hao3
1. National Engineering Research Center for Technology and Equipment of Environmental Deposition, Lanzhou Jiaotong University, Lanzhou 730070, China
2. Key Laboratory of Opto-Technology and Intelligent Control Ministry of Education, Lanzhou Jiaotong University, Lanzhou 730070, China
3. School for Information and Optoelectronic Science and Engineering, South China Normal University, Guangzhou 510631, China