高性能三维纳米结构SERS芯片设计、 批量制备与痕量汞离子检测
黄辉1,2, 田毅2, 张梦蝶1,2, 徐陶然2, 牟达1,*, 陈佩佩2,3,*, 褚卫国2,3,*

Design and Batchable Fabrication of High Performance 3D Nanostructure SERS Chips and Their Applications to Trace Mercury Ions Detection
HUANG Hui1,2, TIAN Yi2, ZHANG Meng-die1,2, XU Tao-ran2, MU Da1,*, CHEN Pei-pei2,3,*, CHU Wei-guo2,3,*
模板纵向结构对微区应力分布的影响 (a): 单层硅模板压印模型示意图; (b): 双层硅模板(具有微米深度台阶的应力分化区)压印模型示意图; (c): 单层硅模板图案区域表面应力分布; (d): 双层硅模板图案区域表面应力分布; (e): 单层硅模板中心72%图案区域的表面应力分布; (f): 双层硅模板中心72%图案区域—高应力区的表面应力分布; (g): 双层模板中心高应力区与边缘低应力区分布示意图; (h): 两种模板中心72%图案区域的应力值百分比柱状图